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內容簡介
本書內容乃將日本ＮＴＴ0.5～0.8μm製程開發中所遭遇的問題，完全以實例說明並提供其解決方法。對於VLSI製程詳細記實的書誠屬少見；書中所蘊藏的寶貴經驗，對於現今及未來0.13μm以下製程良率之提昇而言，甚具參考價值。本書適合專業及有興趣之業界人士使用。
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